Im kapazitiven Touchscreen ist die Entwicklung von projektionsartigen Produkten in vollem Gange. Wie in Kapitel 2 beschrieben, unterscheidet es sich von resistiven Touchscreens. Wenn kein transparentes leitfähiges Glas verwendet wird, wird es durch Verkleben mehrerer transparenter leitfähiger Filme hergestellt. Daher gibt es keine Luftschicht zwischen dem kapazitiven Touchscreen, die die Reflexion der Schnittstelle stark reduzieren kann, wodurch das Problem der Interferenzstreifen und Blendung vermieden wird, so dass es eine überlegene optische Leistung hat. In diesem Stadium kann es, obwohl es nicht für die Texteingabe geeignet ist, Mehrpunkteingabeoperationen realisieren.
Es realisiert die Berührung, indem es die Änderung der elektrischen Größe der transparenten Elektrode erkennt. Die transparente Elektrode wird hergestellt, indem mehrere transparente leitfähige Folien durch eine Klebeschicht miteinander verbunden werden, die durch die Laminiertechnologie vervollständigt wird. Daher ist es besonders wichtig, die unterschiedliche Lesbarkeit des ITO-Films und des Teils ohne ITO-Folie durch Design zu eliminieren. Im Allgemeinen ist es nach der Bildung eines Mustermusters auch wichtig, die Reflexion des ITO-Films und des Teils ohne den ITO-Film sowie den Farbunterschied zwischen Übertragung und Reflexion zu unterdrücken. Die Achromatisierung sollte auch für den Touchscreen berücksichtigt werden. Um der Farbe des Glases näher zu kommen, muss der Dunst reduziert werden. Da das Klebeschichtlaminierungsverfahren verwendet wird, ist es außerdem wichtig, die Konsistenz der transparenten Leitfähigkeit und der Klebeschicht zu erhalten.
Analoger resistiver Touchscreen, kann Texteingabe realisieren. Die Gleichmäßigkeit des In-Plane-Widerstands der transparenten leitfähigen Folie wirkt sich stark auf die Fähigkeit aus, Zeichen korrekt einzugeben. Der Oberflächenwiderstand, der zur Simulation eines resistiven Touchscreens verwendet wird, beträgt im Allgemeinen 200 ~ 10001 V□. In Anbetracht der Erfassungsgenauigkeit und des Stromverbrauchs des Touchscreens ist ein Widerstandswert von etwa 500 (1 / □ am idealsten.
Die Herstellung der ITO-Folie erfolgt hauptsächlich durch den Sputterprozess in der physikalischen Gasphasenabscheidung. Die Sputterfilmbildung ist eine Methode, bei der Inertgas durch Vakuumentladung in einem Vakuumgerät ionisiert wird und Ionen unter der Einwirkung eines elektrischen Feldes beschleunigt werden, um das Ziel zu bombardieren, und die Zielpartikel, die ausschlagen, zum Substrat fliegen, um einen dünnen Film zu bilden. Die Sputterfolie hat eine gute Gleichmäßigkeit und langzeitstabile Qualität, die sich für eine langfristige Massenproduktion eignet. Die Gleichmäßigkeit des Widerstandswertes ist besonders wichtig für analoge resistive Touchscreens, so dass die Sputterfilmbildung am besten für die Herstellung dieser Art von transparenter leitfähiger Folie geeignet ist.
Der Widerstand der ITO-Linie auf dem Dünnschichtsubstrat beträgt in der Regel 3 x 1CT4? 1 x 10_311 • cm Die Vorteile von Dünnschichtsubstraten sind gute Flexibilität, Dünne, Bruchfestigkeit und niedrige Kosten. Der Nachteil ist, dass der zulässige Temperaturbereich klein ist, was den ITO-Filmformungsprozess einschränkt. Die zulässige Temperatur der PET-Folie beträgt mehr als 100 Grad Celsius. Die Kristallinität der abgeschiedenen ITO-Folie bei dieser Temperatur ist nicht gut, was sich direkt auf die Leistung der ITO-Folie auswirkt. Um die oben genannten Mängel zu überwinden, wurde ein amorphes ITO-Folienverfahren mit niedriger Temperatur entwickelt, und dann wurde ein Glühverfahren zur Rekristallisation verwendet, um die Herstellung von Hochleistungs-ITO-Folien abzuschließen.
